温控单元

半导体制程中工艺设备的温度精准控制

SEMI Chiller温控器主要用于半导体(FAB)和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制,如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温(例如LAM, AMAT, TEL, NAURA,Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等)。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。
SEMI Chiller温控器主要用于半导体(FAB)和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制,如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温(例如LAM, AMAT, TEL, NAURA,Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等)。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。
SEMI Chiller温控器主要用于半导体(FAB)和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制,如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温(例如LAM, AMAT, TEL, NAURA,Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等)。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。
SEMI Chiller温控器主要用于半导体(FAB)和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制,如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温(例如LAM, AMAT, TEL, NAURA,Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等)。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。
SEMI Chiller温控器主要用于半导体(FAB)和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制,如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温(例如LAM, AMAT, TEL, NAURA,Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等)。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。